产品描述
名称 |
特点 |
应用 |
物料编码 |
氧化铈抛光液 |
适用于各种硬度的精密光学玻璃,手机盖板玻璃;不易划伤、颗粒均匀、稳定性高、悬浮性好、使用寿命长等优势 |
本产品主要用于保护片,前后盖板,3D玻璃盖板、精密光学玻璃的抛光工序 |
G3115 |
金刚石研磨液 |
采用最优质的微粉原料、配合进口高分散性的配方、可在保持高切削力的同时不易产生划伤,产品的研磨速率稳定、抛光表面好 |
半导体加工、单晶硅、多晶硅、蓝宝石衬底、蓝宝石窗口片;陶瓷材料加工;氧化锆指纹识别片、氧化锆陶瓷手机后壳及其他陶瓷;金属材料加工不锈钢、铝合金、硬质合金及其他金属材料 |
G3116 |
二氧化硅抛光液 |
具有高纯度、抛光速率高、易清洗、粒度均匀 |
单晶硅、多晶硅、蓝玻璃、激光晶体蓝宝石衬底、光学晶体、陶瓷、铝合金、精密金属 |
G3117 |
氧化铝抛光液 |
晶体稳定、硬度高、分布均匀、磨削力强、抛光快、光度高、镜面效果好 |
适用于晶体表面、宝石、光学镜头、微晶玻璃基板、玻璃制品、金属制品半导体材料等方面的精密抛光 |
G3119 |
碳化硅抛光液 |
具有分散性好、粒度均匀、硬度大、抛光效率高等特点 |
光纤连接器、硬盘基片、各种光学玻璃、陶瓷及各种硬质合金的研磨抛光 |
G3111 |
氧化锆抛光液 |
效率高、光洁度高、使用寿命长、悬浮性强、易清洗等 |
适用于软质玻璃 |
G3015 |
不锈钢用氧化铝精抛液 |
产品固含量25%;按照2:1稀释循环使用,过程中补加;PH值为4-6;中位粒径为D50为0.8-1.0、D100为6微米;悬浮性好,循环过程中不起泡、不发臭无刺激;符合RoHS要求;研磨效率高、均匀、细腻,无划伤 |
适合不锈钢、钛合金等的精抛;配合 、白皮、毛毯或黑皮使用:五轴设备、平磨、叠抛 |
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