手机玻璃磨削减薄行业技术特点
宇环新闻
2022-10-10 09:46
手机玻璃磨削减薄行业技术特点：
随着信息技术的发展，消费者对智能手机、平板电脑等轻薄大型消费电子产品的需求越来越大。FPD光学玻璃精加工的市场规模越来越大，具有非常广阔的市场前景，这也将带动FPD光学玻璃精加工行业技术的快速发展。未来手机玻璃磨削减薄行业的发展特点如下:
目前，液晶面板的厚度减少了50%以上，约为0.4mm到0.5mm，液晶面板的质量有了很大的提高。未来，在高质量和薄度的要求下，液晶面板应该从0.4mm(或以上)进一步薄到0.3mm以下。
ITO导电手机玻璃磨削减薄产品已从普通的TN/STN型发展到中高档的TN/STN型。STN型产品主要是低阻ITO导电玻璃，其方电阻值通常低于10欧姆/cm2.对ITO膜厚和表面缺陷要求高，技术难度大。
触摸屏用ITO导电膜玻璃要求电阻高、电阻均匀性好、透光率高。其电阻值约为500 ohm /cm2.电阻均匀度在±10%以内。这很难做。另外，触摸屏还部分采用了聚对苯二甲酸塑料等材料，在聚对苯二甲酸塑料等材料的涂布上需要采用卷绕涂布技术，对技术要求也很高。
通常，ITO涂层手机玻璃磨削减薄在玻璃温度350℃左右进行。对于TFT-LCD，由于液晶公差温度有限，需要采用低温ITO涂层技术。工业中低温ITO涂层的温度通常在100℃以下。同时，为了保证彩色滤光玻璃的ITO膜层的电阻率、透过率和耐化学性，在彩色滤光片上镀ITO膜要采用特殊的低温ITO镀膜技术。
手机玻璃磨削减薄技术原理与ITO镀膜基本相同，但对胞上驱动要求较高，电阻25-30欧姆。镀膜工艺采用多阴极工艺。为了防止接触线短路和侧面腐蚀，薄膜厚度为1300±200安培，比普通ITO涂层薄膜更难实现。
在抗干扰高阻镀膜中，它是一种新型的替代偏光片抗干扰防静电技术，特点是直接在液晶玻璃的表面形成内部镀膜，具体为在镀膜前使用真空等离子清洗，将In - In - Cell基片表面清洗干净，去除杂质，然后再采用镀膜的方法进行镀膜。过程中加入氧气等反应性气体，形成具有防触碰信号干扰和防静电功能的薄膜。电阻达到10^8欧姆，透光率98%，抗静电能力达到8KV以上。一般可分为胞内超高群磁控溅射法、胞内超高群线材溅射法、胞内超高群激光蒸发镀膜法等。胞内抗干扰高阻涂层技术难度较大，掌握该技术的企业很少。
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