FPD光电手机玻璃磨削减薄工艺
宇环新闻
2022-10-10 09:39
FPD光电手机玻璃磨削减薄工艺
FPD光电手机玻璃磨削减薄分为化学腐蚀减薄和物理研磨减薄。目前，FPD光电组合手机玻璃磨削减薄被广泛应用。
化学蚀刻减薄技术是基于氢氟酸化学溶液与玻璃板表面的二氧化硅(SiO2)发生反应使其溶解，通过蚀刻衬底使玻璃厚度变薄的原理。物理研磨减薄技术是通过机械研磨在玻璃基板上，通过物理的方式使显示面板变薄。目前，物理研磨减薄技术主要以机械抛光的方式进行，通过利用抛光粉与水形成抛光液的加工介质，流过机器在一定的压力下被服务和显示面板，机会做相对的运动操作，因此直接接触到坚硬的磨料玻璃表面和显示面板的切割面的厚度，也可以利用这一工艺的原理，做短时间的抛光，减少表面痕，优化显示面板的表面质量。
虽然采用物理研磨法对显示面板进行薄化是可行的，但由于薄基板通常较大，物理研磨法的生产效率较低，成本较高。目前，手机玻璃磨削减薄主要以化学蚀刻为主，辅以物理研磨对蚀刻玻璃表面进行修复。
ITO涂层是一种磁控溅射镀在玻璃基板表面的透明导电薄膜。ITO膜的主要成分是氧化铟锡，主要起到防静电的作用。
磁控溅射是指利用磁场和电场的相互作用，使电子在靶表面附近以螺旋形运行，从而增加电子与氩碰撞产生离子的概率，产生的离子在电场的作用下与靶表面发生碰撞，溅射出靶原子或分子的过程。它的工作原理:在二极管溅射靶材料中(在真空环境中采用粒子轰击使来自靶固体表面的原子或分子发射出一种溅射效应，通过在靶表面上增加一个平行于封闭磁场而产生的溅射效应，借助靶表面形成的正交电磁场，二次电子结合的比面积来增强靶表面的电离效率，增加离子密度和能量，从而实现了高速率溅射过程。磁控溅射具有成膜率高、基材温度低、薄膜附着力好、镀膜面积大等特点。ITO镀膜现在主要有高温镀膜和低温镀膜两种方式，TFT-LCD玻璃基板ITO镀膜是在玻璃基板盒上镀膜，由于液晶的耐受温度有限，所以只能低温镀膜，而低温镀膜的ITO膜附着力较差，镀膜过程中对温度控制、溅射速率、沉积速率、工作压力等因素有严格要求，这需要在过程细节中发展和积累。ITO涂料公司采用低温涂料，可在80℃以下的温度下进行涂料。
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