• YHM77110 高精度立式双面研磨(抛光)机.jpg
+
YHM77110 高精度立式双面研磨(抛光)机.jpg
+
  • YHM77110 高精度立式双面研磨(抛光)机.jpg

YHM77110 高精度立式双面研磨(抛光)机


该机床用于阀片、磨擦片等金属零件,以及蓝宝石、陶瓷等非金属硬脆性材料制作的薄片零件的双面研磨和抛光。

关键词:宇环数控、军工及航空航天、半导体

所属分类 研磨抛光机系列

典型加工零件

加工方式

1、本机床尺寸紧凑,节省空间;采用龙门结构,稳定性好、刚性强。

2、机床最大压力为1200kg,双油缸加压,电液比例阀精确控制压力。

3、太阳轮、内齿圈、上盘、下盘各轴转速能单独调整,且整体速度能匹配。

4、上托盘采用特殊不锈钢,耐腐蚀性和抗变形能力强;上下盘内置冷却加热结构,盘面温度可控。

设备亮点

技术参数

项目 单位 参数

上研磨盘尺寸(外径×内径×厚度)

mm

Φ1070xΦ492xΦ45

下研磨盘尺寸(外径×内径×厚度)

mm

Φ1070xΦ492xΦ45

柱销齿游星轮

mm

7个;外径φ327.5,齿数64

加工件最小厚度

mm

0.8

加工件最大尺寸

mm

φ280(对角线长度)

被加工件精度

mm

单件平面度及平行度0.006内, 整盘工件厚度尺寸精度0.008以内 (试验工件尺寸φ50)
被加工件加工表面粗糙度 μm 研磨Ra0.15/抛光件Ra0.05

下盘转速

rpm

10-80(无级调速)
上盘转速 rpm 8-50(无级调速)
下盘电机 kw/rpm 15kW/额定转速1440rpm
上盘电机 kw/rpm 11kW,额定转速1440rpm
外型尺寸(约:长×宽×高) mm 2500×2000×3000
设备质量 kg 9000